荷兰光刻机设备巨头阿斯麦（ASML）的关键供应商、德国蔡司集团高管称，中国在研发尖端光刻机设备方面仍落后约15年。 蔡司半导体部门负责人罗蒙德（Frank Rohmund）接受彭博社访问时说，中国可能需要15年才能研发出极紫外光（EUV）光刻机，这是一个“合理的估计”，但他补充说，由于相关技术进展难以量化，目前很难准确判断中国的实际水平。 阿斯麦是世界上唯一一家能够商业化生产EUV光刻机的厂商，蔡司是阿斯麦EUV光刻机所用光学系统的独家供应商。 在美国推动的出口管制下，荷兰政府限制阿斯麦向中国市场出口EUV光刻机，也收紧了部分技术要求相对较低的浸润式DUV光刻机设备的出口。 罗蒙德认为，如果出口管制进一步扩大至较旧的DUV光刻机，将不利于企业经营。他说：“我们不认为这些出口限制会产生积极影响，因为这反而会加速中国的创新。” 中国在生产浸没式DUV光刻设备方面已取得进展。科技媒体The Information今年7月引述知情人士报道，上海一家企业已开始制造自主研发的浸没式DUV光刻机，但设备性能及量产可靠性仍有待验证。 罗蒙德说，中国已投入数十年研发相关技术，因此近期有关技术突破的报道“并不令人意外”。他说：“接下来，我们须观察这些设备的实际性能究竟如何。”但他强调：“我们仍然遥遥领先。”

EUV光刻机究竟有多难造？它根本不是单一技术突破，而是全球尖端工业的集大成者！ 极限精度：套刻对准达1纳米级（堪比全速高铁上用针扎针眼），需以每秒5万次激光击中微米级液态锡滴产生极紫外光，最新机型每小时可处理220多片晶圆。 尖端供应链：单台含40万零部件，集结德国蔡司（原子级反射镜）、德国通快与美国Cymer（高能光源）、日本东京应化（光刻胶）及瑞典斯凯孚（精密轴承）等顶级技术。 生态壁垒：ASML与台积电深度绑定，靠数十年海量晶圆试错优化硬件与计算光刻软件。 面对全产业链被锁死和缺乏顶级代工厂试错的现状，中国想要单打独斗全栈自研，难度不亚于独自重构半个现代工业体系。这是工业史上最艰难的突围，哪怕走通前路也注定需要极长时间的磨砺与沉淀。绝对不是所谓的弯道超车，举国之力的口号喊两句就能轻易跨越的门槛。

国产光刻机真来了？美国信息报爆料称，中国已开始生产 DUV 光刻机，目前包括台积电在内的芯片制造商，都在使用这类设备生产芯片。 在数量方面，今年计划生产约 5 台，明年增至约 20 台，这些设备将在今年，陆续交付给中芯、华虹和长鑫存储，以减缓对国外光刻机公司的依赖。

中国成功研发光刻机，对 AI 的正面作用是巨大的。 目前 AI 创造的红利，正在被少数垄断存储颗粒生产商收割，下游模型厂商竞争大，成本高，亏损大。 如果工业革命的果实，大部分被石油国家拿走，你能接受吗？

最近是什么光刻机小作文行情么 中午的又一则，广泛流传的截图，直接带动午后长鑫科技爆拉到日内 10%，跟隔壁韩国 SK 海力士成反向对比