彭博商業周刊 / 中文版
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【設備需求】ASML新一代EUV光刻機獲得台積電和三星的使用承諾
ASML獲頂級晶片製造商承諾使用其最新半導體生產設備，以滿足對更強大AI科技的激增需求。三星電子和台積電分別為不晚於2028年和從2030年開始，採用這家荷蘭公司的高數值孔徑極紫外（EUV）光刻設備進行大規模生產。
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