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荷兰光刻机设备巨头阿斯麦（ASML）的关键供应商、德国蔡司集团高管称，中国在研发尖端光刻机设备方面仍落后约15年。
蔡司半导体部门负责人罗蒙德（Frank Rohmund）接受彭博社访问时说，中国可能需要15年才能研发出极紫外光（EUV）光刻机，这是一个“合理的估计”，但他补充说，由于相关技术进展难以量化，目前很难准确判断中国的实际水平。
阿斯麦是世界上唯一一家能够商业化生产EUV光刻机的厂商，蔡司是阿斯麦EUV光刻机所用光学系统的独家供应商。
在美国推动的出口管制下，荷兰政府限制阿斯麦向中国市场出口EUV光刻机，也收紧了部分技术要求相对较低的浸润式DUV光刻机设备的出口。
罗蒙德认为，如果出口管制进一步扩大至较旧的DUV光刻机，将不利于企业经营。他说：“我们不认为这些出口限制会产生积极影响，因为这反而会加速中国的创新。”
中国在生产浸没式DUV光刻设备方面已取得进展。科技媒体The Information今年7月引述知情人士报道，上海一家企业已开始制造自主研发的浸没式DUV光刻机，但设备性能及量产可靠性仍有待验证。
罗蒙德说，中国已投入数十年研发相关技术，因此近期有关技术突破的报道“并不令人意外”。他说：“接下来，我们须观察这些设备的实际性能究竟如何。”但他强调：“我们仍然遥遥领先。”
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