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夜晚公园小路手机闪光灯抓拍,一位成年女性跪坐在路中央,正面对镜头,双手剪刀手,黑色高盘发,精致眼妆,白色口罩,白色细肩带短上衣,浅色牛仔短裤,半透明薄纱外套,白色光泽丝袜。近距离直闪光照亮人物,背景树木、灌木和昏黄路灯压暗,强烈前景主体与夜景反差,真实手机夜拍质感,竖版构图,低机位略俯视,广角透视,人物居中,脸部清楚,社交媒体随拍感,画面干净清晰,手部自然准确,左上角极小 V猫logo,右下角极小 voxCAT 签名,吊牌 VOXCAT。
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AI短剧《后入极品蜜桃臀的神颜小姐姐们》[1V/413MB] 下载地址:
曾经有个大V发了一条推文。 “这个Skill好。能帮文章去掉AI味儿” 我去他的帖子下留言: “那么去AI味的目的是什么?骗别人还是骗自己。” 当时我的疑惑是为什么不是降低AI率。 后来发现我们不是一类人。 后来写论文1500收到手软。 后来又发了篇推。 “说某些大V离开skill和claude code 就是废物。” 其实是想说不要过分依赖skill和claude code 然后被大V屏蔽了。 (只有那一个大V哦) 我本质上就是喜欢吐槽。 就是论事。 所以当 @CuiMao 来那篇推文下留言她是废物的时候。 我仔细看了下她的账号。 不接商单,不为盈利。 “夸” 再来PUA一下你们: 做个skill,其实很简单 我的X作战计划的skill就是两句对话搞定的。 目前帮很多朋友实现了涨粉和内容策划。 创作的过程非常简单: 1.一开始我只是希望claude帮我分析一下 我说: “根据我给你的csv文件,分析我的作品流量,给我一个创作计划,包括长文,短推文的, 长文每天一篇,短推每天15条左右。 调查并给我一个创作计划.pdf格式。从4月12日开始。 这是我现在的数据。 我需要泛流量 币圈流量 AI圈流量 擦边流量。 拿出你毕生所学,给我一个报告和计划pdf” Claude:balabalabalaba 2.我觉得生成的格式好丑 于是我说: “妈的格式都乱了,配色好丑 经典黑白” Claude:balabalabalabala 3.有了初版感觉还不错,我觉得我以后会用 于是我说: “很好,把我们分析的过程,种种,写成一个内容作战计划skill 让用户输入 昵称 账号bio 当前粉丝数 希望是什么领域发展,还是泛流量。然后生成这种格式的pdf。 自然对话形式的skill 别忘了让用户提供三个月的数据分析的CSV,在X的创作者中心的后台就可以下载数据表格。 创作技能的时候调研你认为所有需要的资料,还有最新论文 加上我AI最严厉的父亲( Claude:拿去 4.后来我优化了这个skill,做了一个自己使用的内网小app。 实现了预测,命中机制,还训练了一个小模型专门做这个。 你们要知道: skill到程序是最关键性的一步 这只是一个小小的思路 不过后来我再也没用过了。 我凭什么跟着AI指的方向走呢? 虽然有用。 再谈谈蒸馏。 我不反对蒸馏。 但要看你是蒸馏的是什么了。 蒸馏个乔布斯给你喂苹果? 后面会写文章讲讲。 顺便 @dashen9999 这个账号大家关注一下。 我的助理。 带着很多小朋友拿到了AI和编程方面的奖杯。 也做了很多课程。 以后你们不懂的,可以让她出个教程。 包括后续的企业培训课程,都是她主打。 让她摆开了嚼碎了喂给你。 爽吗?
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1 昨天一个很搞笑的新闻, 一个自媒体博主去hk高端酒店里怼脸财富,结果采访到了真正的heidao大佬,和胜和前boss,简单来说,就是电影《黑社会》jimmy仔的原型。。 评论区说,还好现在是法治社会,97年以前估计已经被按在地上打成猪头了。。 大佬给年轻人的建议就是多读书,不要被古惑仔等电影影响了,不要老想着打打杀杀。。 2 顺着这个话题聊一下前几天去看的电影《空枪》,先不说剧情,就说演员,朱一龙成了性价比更高的梁朝伟,有朝气,演技也在线,而李治廷成了肌肉版王力宏。。最近当配角的电影估计也过百亿了··· 电影里梁家辉演了原型李嘉诚的原型,而他本人在追龙2里恰好演了张子强的原型,堪称hk于和伟了··· 这电影最明显的导向是,对资本开始明着敲打了,连反派男一号都要写成带点罗宾汉风格的人物,logo里的v甚至还致敬了知名反资本主义电影《V字仇杀队》,这电影甚至六公主还播过。 3 资本主义最大的问题在于人的异化,让人不是人,而是资本本身的奴隶。 如果我们做个类比 点金手的故事是资本主义的具象化。(钱可以买到一切,也可以毁灭一切) 富江的故事则是XY欲望的具象化。(拆家即可不被偷家) 4 昨天星球和vip群发了一个最近做的期权下注标的,也是我用agent扫描出来的。 5 signalplus2.0更新了一个关于社保加仓和开仓的A股交易模块,预计可以再第一次内测里给大家用到。目前看来可以跑赢沪深300年化10个点 6 昨天内地的失业率公布了一个数字,2026年7月,中国青年失业率录得17.9%,前值14.9%较上月提升了3个百分点; 同期,美国青年失业率为8.5%;韩国为7.8%。2026年6月,日本青年失业率为4.2%,英国为14.6%,欧盟为15.5%。 这里必须纠正一下,失业率不是关键,核心是贫困率和饥饿率。内地目前毕业的人群父母都是70后左右,这批家庭的自有住房很高,家里无非的加一双筷子的事情,我这次暑假回老家也发现,配送费反而更贵,但是速度也更快,说明在熟人社会劳动力依然面临供不应求的状态(家政报价甚至是武汉的2.5倍。。) 但上涨也终归不是一件值得开香槟的事情,如果结合前面大佬的话就更值得去思考了。 ps:现在有一些小地方的超市关门就是因为老有未成年来偷东西。真正麻烦的是8090的留守儿童群体,成了短视频当老师的一代人的价值观。避免向零元购滑落。 7 贵金属继续爆拉,没有什么比矿产更能对冲美元的缓慢贬值了。好的矿业股堪比mini版本的大饼。 8 饼子回调,正常,不用过度解读了。另外美股的软件服务类股票都在反弹,走出来趋势的可以分散加点仓位 9 本周有公开课 10 重点关注铝和钛
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总动员了? 今天涨舒服了,我把昨天+前天亏的都找回来了,就差周二那天。最重要的是周五涨一天算三天,心情敞亮,明天开开心心出发旅游。 行情具体周日晚上再分析,先说两个事。 第一件事很离奇,今天盘后大量的政府蓝V集体转发了一篇文章《外资金融机构:当前中国股市估值合理 投资者对后市普遍乐观》。离奇的不是文章内容,而是转发的这些体制内账号,很多和股票,甚至和泛财经一点关系都没有。 比如某些地市的公安局,审计局,社保局,县政府官V、药监局、市政府官V、司法局、文旅局......各市各县,各个部门,都在群推同一篇文章。我一开始还怀疑是不是体制内宣传口操作故障,但等了半天这些号也没删帖,那看来就是刻意为之。 这事以前没见过,这算什么信号?我可以把它理解为公务员牛市总动员嘛,告诉那8000万人不要慌,大家一起上? 文章本身没什么特殊的,我留个国家药监局的链接,你们有兴趣自己点过去看,真没啥,就是比较典型的乐观唱多贴,估值合理,行情火热,预计还要涨。 国家药监局《当前中国股市估值合理 投资者对后市普遍乐观》 另一件事是白天那会财新报道某个官员被查,但是文章发出后又迅速删除,不过已经被人截图转发,各个群广为传播。财新之所以发了又删,肯定是因为还没官宣的不能说,他们不能说我更不能说。该官员大家都认识,该职位历任就很少有善始善终的。 今天晚些时候,路透社也发了这条信息补刀,所以置信度很高,我觉得超过90%了,等过几天官宣吧。 …… 明天我就出发去敦煌了,接下来两天夜报内容估计都是游记为主。 敦煌是我很早就想去的景点,中国三大石窟我已经去了两个,从时间顺序上最早是敦煌(十六国),再是云冈(北魏)、龙门(北魏、隋唐)。 好奇心重的人会有一个疑问,为什么是这3个地方有大型石窟? 原因很简单,这三当年都是交通主干道。龙门石窟在洛阳的门户要道,云冈在大同西线要道,洛阳和大同曾经都是北方政权首都。而敦煌,它是丝绸之路河西走廊最西边的重镇。 敦煌再往西就是阳光(丝路南线)和玉门关(丝路中线),从中原去往西域的商队在敦煌这里即将一分为二,小时候学过的古诗“春风不度玉门关”、“西出阳关无故人”都是在这里写的。 佛教盛行的南北朝、隋唐,权贵阶层喜欢雇工匠在人流量大的交通要道两边修佛像,弘扬佛法的同时给自己积攒功德,于是就有了流传至今的三大石窟。 后来到了明清时期,贸易路线转移,丝绸之路荒废,敦煌也随之没落。直到1900年有一个姓王的道士发现了藏经洞,里面有5万多册藏书,外国文物商人闻声而来,连蒙带骗搞走了大部分,只给我们留下了1万多册 4万多册敦煌藏书流散海外多个国家,这当然是中国考古文物的重大损失,但也让敦煌文化在全世界广泛传播,从上世纪二三十年代开始,敦煌学就是世界文化圈里的显学,敦煌文化也成为现代中国在全球第一个知名IP。 我说个小故事你们感受一下。上世纪五十年代某个贵州酒厂试图拓展海外市场,但它们的品牌当时在国际上几乎没有名气,需要一个更具国际辨识度、更容易被海外消费者接受和记忆的商标,于是就在1958年选用了敦煌高窟第321窟的“飞天仙女”团作为商标logo,至今沿用。 无论是全国重点文物保护单位,还是世界文化遗产目录,敦煌都是中国第一批,如果你对咱们华夏的历史文化感兴趣,那敦煌是此生必去的景点。我早几年就想去,之所以一直拖到今年,主要是还是那里有点远,我带着两个老人出行不能走太远太久,否则老婆一个人在家照顾2个孩子就会比较辛苦。这次我出去4天,她已经嘟嘟囔囔我好几天了 …… 从敦煌文化在世界广泛传播,我有一个感触,就是文物的流散并不完全是一件坏事。试想如果那5万册书全部被保护在国内,敦煌文化的世界影响力一定差了很多个数量级。 同理还有圆明园被抢的十二生肖,很多人不清楚那些铜像其实只是大水法的12个水龙头,要论当年被抢的宝贝怎么排也轮不到它们,但现如今十二生肖已经是圆明园最有名的被盗文物,甚至在很多场合已经是爱国主义的标志载体。 你们有想过原因吗,就是因为它这一套有12个,流散各地,流动性好,隔几年就会有交易或者归还的新闻,一遍又一遍的强化公众的认知。目前已经找回来7个,还有5个下落不明,所以这个ip还有很旺盛的生命力和成长性。 多年后当最后一个生肖回归中国,全套集齐,我都难以想象这会产生多么轰动的舆情。文物本身的艺术价值固然可贵,但更稀缺的是文物在历史变迁中承载的故事。十二生肖从当年被抢流散至全球各地,再到一件一件被找回来,重新集齐成套,这背后的故事和隐喻只要想一想就会浑身起鸡皮疙瘩,我看好它们最终会成为中国最有影响力的文物,没有之一。 从上面这两个例子,我觉得一个ip想要更大的扩张影响,最有效的办法就是让渡股份,让更多人参与持有,参与交易,增加流通曝光。 再引申一步,把IP换成公司,上面这段话也是成立的,这也是那么多家族企业寻求上市的原因。 今晚就这些,发射~
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今天星期四,请你吃鸡吧🐔 GPT IMAGE2.5 提示词: 9:16 竖版,iPhone 日常随手抓拍 × 不知火舞 Cos × KFC 餐厅 × 日系偶像感 × 真实生活摄影。 一位 23–25 岁、明确成年的漂亮日本女性,小头、小脸,精致紧致的鹅蛋脸,清晰下颌线与微尖下巴,真实自然的日本女性五官。肌肤非常白皙、细腻、通透,呈干净明亮的冷白肤色,带淡淡自然粉润血色,保留真实毛孔与细微皮肤纹理。 人物采用不知火舞风格 Cos 造型:深棕色长发扎成标志性的高马尾,搭配精致发饰,发丝自然蓬松。妆容采用清透日系偶像妆,眉眼精致、睫毛自然、淡粉腮红、水润蜜桃粉唇,整体漂亮、清纯、可爱,但保持明确成年女性面容。 服装采用不知火舞灵感的红白配色改良 Cos 服,保留经典东方格斗角色的红白色彩、绑带、腰饰与轻盈裙摆元素,同时改造成真实可穿着的时尚 Cosplay。上身采用明显的大深 V 低领设计,肩部自然露出,展现肩颈与锁骨线条,胸部视觉约为自然 E 罩杯,丰满但不过度夸张。服装结构完整、固定可靠,细节精致。 人物坐在真实 KFC 餐厅的餐桌旁,身体正面朝向镜头,略微向前倾,脸上带有害羞、开心又有一点装可爱的表情,眼睛自然看向镜头。 一只手伸向镜头前方,形成明显的近大远小透视,手中拿着一块刚蘸过番茄酱的炸鸡,像正在开心地把炸鸡递到镜头主人嘴边,请对方尝一口。另一只手自然放在桌面、脸侧或身体旁边,姿势俏皮、生活化。 桌面可见炸鸡餐盒、番茄酱、小纸杯、饮料与餐巾纸等真实快餐店元素。背景自然出现其他顾客、餐桌椅、灯具和店内环境,但人物始终是视觉中心。 摄影方式强调**“极其普通但人物特别漂亮”的 iPhone 快照感**:没有过度精心的商业构图,画面略微倾斜,人物不完全居中,留白稍微不均匀,像朋友坐在餐桌对面临时拿手机拍下的一张照片。 采用自然白天室内光线,窗外日光与餐厅灯光混合,光线分布略微不均匀,使人物冷白肌肤产生轻微高光溢出。人物脸部、眼睛和 Cos 服主体保持清晰,伸向镜头的炸鸡和手部可以因距离较近产生轻微透视与自然景深。 整体加入轻微 CCD / 旧 iPhone 色彩语言:低对比、轻微曝光、少量自然颗粒、非常克制的运动模糊和手机锐化,但不要真正低清。整体呈现漂亮日本 Coser 在快餐店随手喂你炸鸡的轻松、可爱、真实生活氛围。 负面提示词: 未成年外观,儿童脸,大头,大脸,宽脸,胸部过度夸张,V领过浅,高领,服装完全滑落,衣物穿模,廉价Cosplay,错误发型,手挡脸,炸鸡遮脸,炸鸡变形,手指融合,多手多指,多余肢体,严重运动模糊,严重过曝,塑料皮肤,过度磨皮,动漫脸,CG脸,背景空无一人,商业棚拍感,文字乱码,额外Logo,水印。 #今日提示词# #GPT# #IMAGE2#.5
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旗袍是我的最爱🥰你喜欢吗? GPT IMAGE2.5 提示词: 9:16 竖版,手机随手拍视角 × 真实 coser 人像 × 日漫风改良旗袍 × 低饱和冷调生活摄影 × 自然纪实感。 一位 23–25 岁、明确成年的漂亮日本女性,身材高挑纤细,小头、小脸,肩颈修长,腰身纤细,双腿自然修长。整体纤细高挑身材保持自然协调。肌肤 非常白皙、细腻、通透,呈冷白肤色,在手机曝光下显得白净柔滑,同时保留基本真实皮肤纹理。 人物拥有真实日本女性真人脸,五官精致柔和,流畅鹅蛋脸与清晰下颌线,眼神自然,整体气质清冷、安静、带一点生活化的疏离感。头发可为自然黑色或深棕色长发,顺滑披散,带少量随意碎发,符合生活场景下的随手记录感。 服装为日漫风改良旗袍 coser 造型,整体保留旗袍的东方轮廓与立体剪裁,同时加入明显的日漫风格设计语言,例如更轻盈的线条、年轻化的轮廓、精致装饰细节与略带幻想感的视觉元素。服装采用明显的大深 V 低领设计,自然展现肩颈、锁骨与上胸线条;下摆自然打开或侧分,自然露出腿部线条。人物 不穿鞋、不穿袜,全程赤脚,双腿和双脚自然入镜,整体既时尚又保持克制,不显低俗。 人物采用正面朝向镜头的姿态,可以自然站立、轻靠墙边、站在生活化室内角落,或以松弛自然的站姿面对手机镜头。双手动作自然,一只手可轻提裙摆、整理头发或自然垂落,另一只手可轻扶身体侧面或身边物件。整体姿态像在真实生活中被手机顺手记录下来的瞬间。 场景为充满生活气息的日常空间,可设置在居家室内、生活化走廊、日式出租屋一角、带家具与日常物件的房间,背景不夸张、不影棚化,强调真实环境感。环境略带杂乱但不过分脏乱,像真实生活片段。 画面采用低饱和、冷色调、低分辨率感、高颗粒手机摄影质感,模拟真实随手拍效果。整体不过度精修,保留一定噪点、轻微压缩感与手机成像的自然瑕疵,但人物面部、深 V 领口、旗袍结构、腿部线条与赤脚细节仍保持清楚可辨。 曝光以人物为中心,确保皮肤显得白皙、明亮、柔滑,同时整体保持冷静、克制、日常的视觉氛围。画面像是在生活中偶然拍下的一张照片,而非过度摆拍的商业大片。 核心关键词: 日本女性,23–25 岁,皮肤白,正面,深 V 领,E 罩杯视觉,不穿鞋袜,自然露腿,手机摄影视角,真人 coser,日漫风改良旗袍,低饱和,冷色调,高颗粒,生活化场景,9:16 竖版,纪实感,自然抓拍。 负面提示词: 动漫脸,纯二次元插画感,CG脸,塑料皮肤,过度磨皮,过度商业摆拍,背景过空像影棚,高饱和,暖黄色调,鞋子,袜子,腿部被遮挡,背对镜头,高领,V领过浅,胸部过度夸张,低俗暴露,衣物穿模,肢体畸形,多手多脚,模糊到看不清五官,文字,Logo,水印。 #今日提示词# #GPT# #IMAGE2#.5
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这段时间跟人讨论华为的τ scaling(时间微缩),发现讨论仅停留在字面,没有触及它的实质,大概因为不少朋友不是EE出身,不知道τ这个符号在电路里的经典含义。电路课上最早学的时间常数就是τ=RC,一段导线的电阻乘上它的电容,就是信号通过这段线所需时间的量级。线越长,电阻和电容越大,信号就越慢。在这套框架里,过去六十年的几何微缩被重新解释成时间微缩的一种实现方式,晶体管做小是为了缩短开关延迟,电路排得更紧是为了缩短金属连线、降低信号的传播延迟,几何微缩只是手段,压缩延迟才是目的。华为这套理论,就是当几何微缩走不动之后,换其他办法继续压缩延迟。 正好,何庭波那篇τ scaling论文前两天出了v2,内容从16页变成23页。我对比了两个版本,数据和结论均没有改动,补充的内容基本都在回应行业里对v1的几点质疑。主要有三个点值得聊聊。 最重要的一处,是给之前声明式的"能效提升41%"补上了测试证据。v1里这个数字没有基线也没有测试条件,是最容易被质疑追问的一点。v2补了一张完整的对比表。基线是2025年的Kirin 9030 Pro,两颗芯片采用同一成熟工艺节点,关键差异在于基线是传统平面设计,Kirin 2026把关键路径折叠到了上下两层晶圆。折叠缩短连线、压低互连延迟,关键路径上多出的时序余量直接转化为时钟频率上限的提升,1.1V供电下最高频率达到3.1GHz,比基线高13%。而"能效提升41%"出自另一个专门设置的工作点,降压到0.9V、降频到2.5GHz,与基线做等性能对比,25℃实测功耗为基线的0.59倍。从理论上估算也成立,动态功耗近似与电压平方成正比,供电电压下调18%,仅平方项就贡献约三分之一的降幅,再计入降频9%和折叠削减的连线电容,正好落在0.59附近。所以能效提升41%的准确含义是等性能下的功耗降低,本质是把折叠挣出的时序余量兑换成功耗的降低,能效比的提升来自逻辑折叠。此外,v2还附带一个数据,双层堆叠后功率密度反而比基线低5.6%。 第二处新增内容,回答的是同行最容易提的问题:3D堆叠早就有了,AMD的3D V-Cache、Intel的Foveros都在量产,你这个LogicFolding新在哪。要理解论文的回答,得先知道两层芯片之间怎么通信号,靠的是层间的键合点,作用类似连接上下两层的电梯。此前量产的3D堆叠,键合点平面间距在9微米到几十微米之间,算下来每平方毫米能安排一万多个连接,给一整块缓存接总线够用了,所以过去的设计方式是把完整的功能块整个搬到上层,比如AMD把一整块缓存叠在处理器上面,两层各自设计,中间用接口相连。但芯片内部一平方毫米里挤着上亿个晶体管,想让相邻的逻辑门一个在上层一个在下层,这个连接密度差得远。Kirin 2026把键合点的平面间距做到1.5微米,每平方毫米44万个连接,和芯片内部顶层金属导线的密度已经差不太多,跨层走一根线,和在芯片内部金属层走一根线,开销已经相差无几。到了这个程度,两层硅片在电路意义上就融成了一整块,EDA工具可以在逻辑门这个粒度上决定谁放上层谁放下层,交给算法做全局优化,设计自由度和以前完全不是一个量级。论文还解释了为什么不走另一条更激进的路线,直接在一层器件上面再制造一层器件。那条路层间连接最细密,但制造第二层需要高温,会损伤已经做好的第一层,目前量产走不通。 第三处是热管理。垂直堆叠会显著增加单位面积的热密度,下层硅片的散热路径还被上层遮挡,这是3D堆叠绕不开的第一个质疑,v1并未深入讨论。v2正面承认热管理仍是LogicFolding架构的关键挑战,给出的对策是热感知的划分与布图规划,设计阶段就把高功耗电路排除在折叠范围之外,并在结构上避免高功耗模块在垂直方向相邻,防止热点叠加。这套策略是工程师手工施加的约束,还是已经固化进内部EDA工具的自动流程,论文没有说明,只把多物理场的工具链明确列为未来十年最重要的一项投资。配合等性能工作点下功率密度低于基线5.6%的实测数据,散热问题算是有了正面回应。不过这套处理方法本质上是回避式的,堆叠层数增加到三层四层之后,可折叠电路的选择空间会被热约束持续压缩,论文没有展开讨论这个边界。 此外,v2还补了一张两层硅片键合界面的显微截面照片,并且明确写了用的是wafer on wafer混合键合。这个规格值得跟同行业比较一下,1.5微米间距的晶圆对晶圆混合键合用在量产逻辑芯片上没有先例,台积电SoIC目前量产间距是6微米,Intel的Foveros Direct是9微米,实属厉害。 对比完两个版本的论文,我还有两个问题。一个关于设备,这个规格的键合设备是谁供的,论文只说是跨供应商生态多年工艺开发的结果。另一个关于EDA工具,把两层硅片当一整块芯片做设计,市面上现有的EDA工具干不了这个活,论文承认这一点,只说方法学细节"几个月内发表"。可是频率表里,2027年那代3.39GHz的Kirin已经标注有实体芯片,说明这套工具在华为内部早就跑通了,而且至少跑通了两代产品。个人猜测,这套EDA是华为自己做的。欢迎了解情况的朋友聊聊。
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华为τ scaling定律营销策略,无非是more than moore的广义摩尔定律的另一种说法而已 作为芯片架构师,我更感兴趣的,还是芯片密度提升,ppt上41%能耗提升和12.7%性能提升,到底是怎么实现的 看完了论文,感觉华为这次创新,本质上是用设计复杂度高 + 高制造成本 + 超前散热,一定程度弥补了工艺差距 ----------------- 1. 华为芯片堆叠带来的等效密度提升,是虚假宣传还是真的,是不是工艺突破?有没有实打实的好处? 等效密度提升的来源,是两片芯片用hybrid bonding技术绑在一起,投影面积理论上能减小一半,但第一代不是全芯片双层折叠,而是选择性折叠关键logic,所以只有大概53%的芯片面积实现了折叠(密度155->238),等到后面几代折叠面积会逐渐增大,到2030年接近全折叠(密度155->292) 这2026第一代等效密度从 2025 年 155 MTr/mm² 跳到 2026 年 238 MTr/mm²,时钟频率也提升了12.7%,功耗比提升41%,表面上看似乎和工艺突破没有什么区别,但有一点重要区别就是leakage power华为从头到尾没有提,只要工艺节点不变,gate leakage、junction leakage 不会因为 3D stacking 自动改善 2030年到2031年的等效密度突变,大概率是来自于2层堆叠到3层堆叠,正如2025到2026年的等效密度突变,时钟频率突变,来自单层到2层折叠 所以从leakage没提这个事来看,这个2031年等效1.4nm,和工艺节点上的突破没有联系。 本质上是用设计复杂度高 + 高成本 + 超前散热 + 超前部署advanced packaging,一定程度弥补了工艺差距 ----------- 那么这样看起来虚假的等效密度提升,有用处吗?好处在哪里? 有的,设计上topology折叠,原来要跑几毫米的水平走线,折叠后变成了几十微米。降低了super buffer/bus的长度,降低了clock tree的深度(clock depth -42%、clock wire -28%),clock skew也带来了改良(-25%),这对动态功耗的改善是实实在在的。部分critical path的缩短,也让时钟频率的上升更容易 所以ppt roadmap上performance的提升,从2025年到2026年上升了12.7%,大部分都是来自于时钟频率的上升(12.7%) 所以好处基本上是topology拆分电路逻辑设计上带来的提升 既然没有实质上的工艺提升,华为芯片堆叠带来等效密度提升的trade off代价在哪里? 三个代价:散热超前发展,设计复杂度高,制造成本变高 最大的代价就是热密度的同步上升,理论上logic on logic都是CPU execution发热最严重的区域,这部分折叠起来相当于功耗密度直接翻倍,但算上41% power efficiency改善,功耗密度仍只比非堆叠方案高40%左右。所以第一代只能对最关键的部分做折叠,大概只占全芯片面积的53%。 所以散热技术也被逼的超前发展,直接上毫米级的MEMS风扇,做micro-cooling fan。 另外的代价就是设计复杂度的变高,critical path的折叠,哪个部分的logic能折叠,折叠之后又会带来从前端到后端的巨大变化要推翻重来 现有的所有EDA工具也不可能支持3D topology,论文自己也承认,full-scale LogicFolding需要全新的3D-native EDA toolchain,把多层stacked dies当作单一连续设计实体处理。哪些logic能折叠、折叠后的inter-die timing closure怎么做,Physical Design(PD)也是难点 制造成本也会更高,被迫超前部署advanced packaging封装,1.5~2um的hybrid bonding + logic on logic都是很有挑战需要显著更高的成本 以前一层wafer做一次光刻;现在两层wafer分别做光刻再bonding,加上hybrid bonding的overlay控制(论文要求<0.5μm)、TSV、KOZ keep-out zone、冗余修复、良率乘法损失,每颗芯片的制造成本和测试成本都要显著上升 -------------------------- 2. Tau scaling这个说法,scaling的到底是什么,这个scaling技术路线是不是一次性的design topology红利?潜力如何?持续进步的空间在哪里? τ Scaling的核心主张是:用时间常数τ替代几何线宽作为全栈优化目标,在器件、电路、芯片、系统四个层级分别压缩特征延迟 公式本身没有任何新物理。"关注瓶颈延迟"是所有架构师都在做的事情。整个行业都知道互联RC是延迟瓶颈,TSMC每一代工艺都在用low-k dielectrics/semi-damascene等手段降RC。把一个众所周知的优化方向包装成"定律"是显然的营销宣传手段,本质是More than Moore的广义摩尔定律的另一种说法 抛开marketing,华为目前所谓RC delay的改善,本质上是芯片堆叠之后,topology距离缩短,让匹配的effective RC都变小,不是RC工艺常数 至于scaling的意思,是能持续发展的一条roadmap。这里的持续改善路径指的是,全芯片堆叠的层数越来越多,从25~30年的2层堆叠,到31年开始的3层堆叠,以后甚至会考虑4层堆叠 第一代折叠技术甚至不是全芯片双层折叠,而是选择性折叠关键logic,所以只有大概53%的芯片面积实现了折叠(密度155->238),等到后面几代折叠面积会逐渐增大,到2030年接近全折叠(密度155->292)。2031年的roadmap之所以会出现一个阶跃,就是因为那是从2层折叠到3层折叠的时间点。 但需要注意的是,这个scaling方法的边际效应是逐渐缩小的,折叠成双层的收益是100%,2->3层的收益就只有50%,如果2035年再从3->4层堆叠,收益就只有33%了 另外随着堆叠层数变高,上面说到的三个挑战,散热,设计复杂度,成本,都是越来越大 --------------------- 3. 华为的芯片堆叠,是不是TSMC/AMD已经有的hybrid bonding技术?华为做到的是cache on logic,cache on cache,还是logic on logic,logic on logic最大的散热问题是怎么解决的? 是已经有的技术没错,但同时也是把现有技术指标做到了领先也是真的,3D堆叠本身不是新技术,TSMC的hybrid bonding量产还是6um,华为论文给出Kirin 2026的hybrid bonding pitch是1.5μm 我在刚刚看到华为的堆叠消息之后,第一反应也是怀疑和AMD的3D V cache类似,它主要把 SRAM cache 叠在 已经有的L3 cache 区域上,通常会避免直接堆在最热的 CPU execution logic 上,就是避免散热问题,毕竟SRAM 的功耗密度和热点特性与high-activity logic 不一样,如果最热的logic on logic堆叠,散热恐怕会碰到困难 但看了更多数据之后,clock buffer -56%、clock depth -42%、clock wire -28%,这些只有在core内部的clock distribution被重构时才可能发生。纯SRAM stacking不会碰core内部的clock tree。另外如果只是cache on cache,大概率是不需要单独MEMS微型风扇额外散热的,证据普遍都指向logic on logic方式 华为这个技术的精妙之处在于,logic on logic 折叠之后热密度并没有翻倍,而是因为topology的好处,能耗下降了30%,这样热密度只上升了40~50% 而第一代没有完全把整个最热的execution logic 100%堆叠起来,论文也明确说selectively applied along key critical paths,只是大概53%有选择性关键路径会堆叠起来,可能颗粒度都没有那么好,只是IP堆叠在IP上,那么热密度上升也许能维持在20%以内 但这条道路继续前行,超前发展的散热就成了必然,现在是MEMS微型毫米级的主动散热风扇,紧贴处理器传导效率高,和华为手机一样,散热堆料特别足,而且技术领先同行。 以后怕是要把HBM7/8的微流道散热技术提前用起来了,毕竟HBM7/8要上24+层堆叠,华为很可能要在提前用上下个世代的散热技术了 ------------------------- 4. 从架构角度来说,最重要的问题,华为41%的power efficiency(能耗比)提升,到底是怎么实现的?为什么AMD的3D V cache没有这么大的提升? 首先确定41%的定义。论文只说"SoC performance-core power efficiency improved by 41%",没有给出benchmark名称、Voltage/Freq点、温度条件、功耗边界。但PPT roadmap上有一个关键线索:ISO-Power Performance的数字,2025年是2.75,2026年是3.1,提升12.7% 这个时钟频率提升12.7%完全一致,可以理解为,同功耗的性能提升是12.7%,绝大部分是时钟频率提升带来的 至于能耗比上优化的猜测是,LogicFolding缩短critical path → 在固定Vdd下Fmax从2.75GHz提升到3.1GHz → 这意味着在原来的2.75GHz频率下,有了约12.7%的timing headroom → 这个空间在iso-performance模式下可以换成更低的Vdd 另外的能耗比的提升,可能也来自于电路折叠之后,cache hit latency的下降。从业界经验来看,一般L2/L3 cache hit latency下降10%,CPU整体性能会有至少5%的提升 ppt里显示SRAM latency下降30%,估计会有一部分转化为cache hit latency的下降 AMD的3D V cache没有这么大的提升,主要是因为AMD的底层logic die并没有重新设计,3D cache的延迟latency不仅没有减小反而加大,只是增加了cache大小,收益不如latency下降那么明显。 另一方面,clock skew的下降,critical路径变短,造成电路timing变好,意味着华为可以使用更低的vdd(猜测甚至能低7~8%),以及路径缩短所带来的RC的下降(考虑到clock buffer -56%、wire -28%、SRAM pJ/bit -24%这些数字,比如C_eff下降10~15%合理),再加上clock tree的整体缩短和下降,确实是有可能在部分Voltage/Freq点做到同性能下,做到30%的功耗下降的,而30%的功耗下降换算过来就是41%的power efficiency 对比苹果和高通,每一代手机芯片在iso-power下单核性能一般提升10-20%,iso-performance下功耗一般降30-40%,这是V/F曲线的特性决定的,所以从经验上来说,数字是对的上的。 所以这个power efficiency(能耗比)的提升,从现有的数字上来说可以从topology推导出来是合理的,可能真的和工艺节点没有太大关系 ---------------------------- 5. 这个技术路线有没有可复制性,其他家会不会效仿? 短期内不会大规模效仿,因为性价比和风险收益比来说不好。长期来看,这个方向所有人都在走,只是名字不一样 华为做LogicFolding的根本驱动力是制裁,工艺节点被卡在7nm,只能在封装,散热,和设计层面想办法弥补。华为也为此付出了不小的代价:散热成本,设计复杂度,以及制造成本更高(包括良率)。这是一个被逼出来的路线,不是一个自然选择 其他玩家在用TSMC就能做到正常的经济迭代,是没有必要冒着这个风险,去超前迭代散热技术和设计复杂度的 长期来看,Intel的Foveros、TSMC的SoIC、AMD的MI300的3D stacking都在朝同一个方向走。如果继续追最先进节点的经济性持续恶化,那么"固定一个成熟节点+3D topology optimization"的路线会越来越有吸引力 散热方面,MEMS微型风扇和微流道也会成为未来HBM散热的主流 ------------------- 总结一下,华为这次的创新,绝对是值得尊重的,在制裁环境下,用极高的设计复杂度和成本,在一个被锁定的工艺节点上大胆重新设计,榨出了一次大的topology红利,虽然它有天花板。每多加一层的边际收益递减(堆叠1->2层, 2->3层, 3->4层,提升百分比变小),leakage无法解决,散热越来越难,3D EDA工具链更是全新的挑战。 但这个Tau scaling不是一条可以走十年的指数增长路径,每次爬完一个台阶,下一个台阶更难爬,而且台阶更矮收益更小,华为以后想缩小差距,还得再想想靠什么其他的路线
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