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联合早报 Lianhe Zaobao
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加入 May 2009
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中国本周传出已开始生产自主研发的浸没式深紫外光刻机,预计今年内交付约五台这类晶片制造关键设备。受访学者评估,若消息属实,意味着美国对华科技战持续数年的“小院高墙”策略宣告失效,中国应对美国以晶片和光刻机卡脖子取得里程碑式突破,但在设备质量追赶行业龙...
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