小陆师傅(@STANLEES4):6月的传言是国产DUV良率达到70%，争取年底达到90%，同时使用海外光刻机的双重曝光法完全成熟，下半年升级成四重曝光法的等效5nm芯片，并在明年向国产光刻机转移。 8月的传言是国产光刻机套刻精度达到1.3，满足四重曝光法最低要求1.4，可以满足等效5nm国产化需求。 10月华为的新机带着9100芯片就要问世了，正好能看看是否传言为真。

2024.09.01 07:58

6月的传言是国产DUV良率达到70%，争取年底达到90%，同时使用海外光刻机的双重曝光法完全成熟，下半年升级成四重曝光法的等效5nm芯片，并在明年向国产光刻机转移。 8月的传言是国产光刻机套刻精度达到1.3，满足四重曝光法最低要求1.4，可以满足等效5nm国产化需求。 10月华为的新机带着9100芯片就要问世了，正好能看看是否传言为真。