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【クラレ、半導体工場の排水処理に使う膜を増産 29年に】
クラレは14日、半導体工場の排水処理などに使うろ過膜の生産能力を増強し、2029年の稼働開始を目指すと発表した。同日開催した事業説明会で明らかにした。
人工知能（AI）の成長で半導体工場やデータセンターの排水設備の需要が高まっている。
汚れのひどい濃厚排水をろ過する「中空糸膜」の生産を拡大する。増産能力や投資決定時期は非公表。倉敷事業所（岡山県）の現有設備は、28年ごろには生産能力が不足する見通しだ。
同社は31年にかけて売上高の年平均成長率（CAGR）が21%になると見込んでいる。需要増加に向けて体制を整える。
半導体工場では大量の水を使用するため、排水の再利用ニーズが増している。濃厚排水は金属や油分などの不純物を含むため処理が難しく、多くを廃棄してきた。同社はろ過膜の粗さを内側と外側で変えることで従来品の約5倍の速度でろ過できるという。
出典：日本経済新聞
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