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超极品玉足!约足模姐姐打台球,台球桌上足,脚趾夹住一次次顶到脚心,最后按到台球桌上后入… 完整作品都在主页置顶 #曹长卿# #足控#
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全网足控女S博主顶流👉 @SUOQV @SUOSX @XSGCM 6.19日榜 图一 @MistressSang777 图二 @Kittyyyyy11040 图三 @Zzzkun21 图四 @youyouzuyy 首次投稿请私信 @SUOQV ✨汇聚全网真实足模女S博主无门槛约现平台:
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8.02梭哈晨报: 周末果然是妖币诞生的日子,基本上蛰伏5个工作日的币都在这两天爆发,给足了大家周末赌博提供场所的样子! 1. $BTC 被盗的钱包开始砸盘了,叠加微策略开始说要大规模卖币了; 2. $ETH 好像不在坚挺了; 3. $SOL 前段时间集体喊的BP,已经腰斩了; 4.Solana基金会CISO:AI正让加密诈骗更难防; 就好像Solana的诈骗一样; 5.特朗普权衡CLARITY Act伦理反提案,参议院需在8月7日前争取60票支持; 6.俄罗斯扩大加密挖矿禁令范围,莫斯科地区禁令将持续至2032年; 7.灰度敦促参议院休会前表决CLARITY Act; 8.COLDCARD漏洞或因编译器绕过处理出现; 被盗金额大幅扩大,目前1000+BTC; 9.Michael Saylor:并非因亏损被迫出售比特币,未来仍将保持净买入; 10.发行量创历史新高,美国ETF两个月新增约390只; 11.伊朗外交部:决心继续走抵抗与坚守之路; 12.MARA CEO:比特币已错过成为支付工具的机会; 除了灰产真的没机会了,不过灰产也没机会了; 13.BNB Chain 正在对前员工采取法律行动,因其从教程钱包中发起了一种迷因币; 看大家似乎都知道前员工是谁,所以好难猜啊; 14.比特币挖矿难度较年内峰值下降14%,为历史上第二次出现同比负增长; 众所周知一大堆矿企去做ai了; 15.太子集团核心人物胡小伟被遣送至美国,FBI 已介入调查; 又要给美利坚送钱了; -------------- 不会真的有人信了soalan基金会大哥们喊单吧,喊的除非是meme,不然都是给大爷们送钱哎。 #Bitcoin# #Ethereum# #Solana# #Crypto# #Nasdaq#
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矽電容(Silicon Capacitor) 1. 誕生背景與核心優勢 傳統鋁質電容與常規MLCC在HPC、AI伺服器、1.6T及以上高端光模組等高速、高發熱場景下,已無法滿足低熱敏、高穩定性、高頻濾波的需求。矽電容正是為此應運而生。核心優勢: - 透過閾值優化大幅提升性能,能有效過濾高速電流雜波、降低發熱干擾、保護主晶片。 - 大幅提升高端模組整體運行穩定性。 - 非MLCC:無需陶瓷封裝,以裸晶形態存在,直接替代主晶片周邊的高頻MLCC及傳統鋁質電容,是高端算力與光通訊專用的無源器件。 2. 技術與工藝特點 - 製程要求:僅需8吋、12吋成熟晶圓製程,無需5nm/7nm等先進製程。 - 核心技術壁壘:不在晶圓工藝複雜度,而在於電容/電感設計能力以及電力基礎技術累積。 - 最大工藝難點:切割環節(需精準避免損壞晶片)。國內掌握成熟切割工藝的廠商極少,這是當前產業核心壁壘。 - MLCC廠商轉產難度:極高。缺乏專項設計經驗與電力技術累積,跨界嘗試進展緩慢。 3. 完整產業鏈分工 - 晶圓製造:目前主要依賴國外晶圓廠。 - 封測環節: ‧ CP測試 ‧ 晶圓減薄 ‧ 磨平 ‧ 雷射切割(核心設備來自日本) - 出貨形式:以裸晶晶圓形式交付下游。 - 成本結構:封裝成本約占單顆整體成本的30%。 4. 產能、良率與擴產 - 晶圓尺寸:8吋與12吋均已量產。 - 單片晶圓產量:少則數萬顆,多則二十多萬顆(高端模組單片可達20-30萬顆)。 - 產能壁壘:量產階段壁壘不高,可透過新增設備快速擴產。 - 擴產規劃:多家企業三期工廠建設中,同時規劃先進封裝產能擴建。 5. 下游應用場景與用量(核心驅動力) 主要應用領域:高速光模組與HPC/AI伺服器。高速光模組: 800G光模組已部分搭載矽電容商用;1.6T光模組已正式商用出貨,單顆1.6T光模組需用到近20顆矽電容;後續3.2T光模組的矽電容用量將大幅提升。 AI伺服器: 算力模組整體用量龐大,例如英偉達相關AI伺服器單顆可使用4-6萬顆矽電容。 貼裝方式:由下游光模組廠商自行負責MSAP貼裝。 使用邏輯:並非絕對必須,但隨著1.6T+國產化推進,傳統電容無法滿足高傳輸速率與穩定性需求,矽電容成為優先替代方案。 6. 市場空間 對標MLCC成熟市場,矽電容整體市場空間可達數十億美元級別。目前MLCC尚未被完全替代,成長空間充足。 7. 競爭格局 海外:Murata、ROHM等成熟龍頭,技術領先。 中國國內:優質設計廠商各具特色,其中蘇納光電進展最快,已實現小批量量產(月產數百萬顆),深度綁定國內頭部光模組廠商。 傳統封測大廠(如日月光、矽品):短期內不會重點布局。原因在於矽電容屬於細分利基賽道,毛利低於HBM、CoWoS、2.5D/3D等主晶片高端封裝,非其策略重點。 8. 獲利水平 矽電容封測毛利率低於HBM、CoWoS等高端封裝,但因雷射切割等環節在中國國內稀缺性高,目前整體利潤水平較好。
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从春晚舞台到资本市场,人形机器人第一股宇树上市进入倒计时 曾被马斯克转发并评价 impressive 的宇树机器人科创板IPO获正式受理。借助面向优质科技企业设置的预先审阅机制,宇树6月1日通过上市委审核,7月1日获得证监会注册批复,从正式受理到注册仅约百日。7月30日晚,宇树披露发行安排,IPO由审核阶段正式进入询价与申购阶段 本次宇树科技拟公开发行4044.64万股,占发行后总股本的10%,证券代码为688836。按照安排宇树将在8月5日进行初步询价,8月7日公布发行价格,8月10日开放网上及网下申购,8月12日完成缴款。公司计划募集42.02亿元,其中20.22亿元投向智能机器人模型研发,11.10亿元用于机器人本体研发,其余资金用于新产品开发和制造基地建设 宇树上市的底气来自业绩迅速放量。2025年宇树营收达到17.08亿元,同比增长335.36%,净利润达到2.88亿元。全年人形机器人出货量超过5500台,2025年前三季度人形机器人收入占比已升至51.53%,首次超过四足机器人 此次上市估值高达惊人的420亿元,相比公司2025年6月127亿元的投后估值已有明显跃升。宇树也在招股书中提醒具身大模型尚未规模化应用,行业仍处于商业化早期。上市之后宇树的生命线则是需要去考虑机器人能否从舞台表演、科研教育和开发测试,进一步进入稳定、可复制的大规模生产与服务场景
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华为τ scaling定律营销策略,无非是more than moore的广义摩尔定律的另一种说法而已 作为芯片架构师,我更感兴趣的,还是芯片密度提升,ppt上41%能耗提升和12.7%性能提升,到底是怎么实现的 看完了论文,感觉华为这次创新,本质上是用设计复杂度高 + 高制造成本 + 超前散热,一定程度弥补了工艺差距 ----------------- 1. 华为芯片堆叠带来的等效密度提升,是虚假宣传还是真的,是不是工艺突破?有没有实打实的好处? 等效密度提升的来源,是两片芯片用hybrid bonding技术绑在一起,投影面积理论上能减小一半,但第一代不是全芯片双层折叠,而是选择性折叠关键logic,所以只有大概53%的芯片面积实现了折叠(密度155->238),等到后面几代折叠面积会逐渐增大,到2030年接近全折叠(密度155->292) 这2026第一代等效密度从 2025 年 155 MTr/mm² 跳到 2026 年 238 MTr/mm²,时钟频率也提升了12.7%,功耗比提升41%,表面上看似乎和工艺突破没有什么区别,但有一点重要区别就是leakage power华为从头到尾没有提,只要工艺节点不变,gate leakage、junction leakage 不会因为 3D stacking 自动改善 2030年到2031年的等效密度突变,大概率是来自于2层堆叠到3层堆叠,正如2025到2026年的等效密度突变,时钟频率突变,来自单层到2层折叠 所以从leakage没提这个事来看,这个2031年等效1.4nm,和工艺节点上的突破没有联系。 本质上是用设计复杂度高 + 高成本 + 超前散热 + 超前部署advanced packaging,一定程度弥补了工艺差距 ----------- 那么这样看起来虚假的等效密度提升,有用处吗?好处在哪里? 有的,设计上topology折叠,原来要跑几毫米的水平走线,折叠后变成了几十微米。降低了super buffer/bus的长度,降低了clock tree的深度(clock depth -42%、clock wire -28%),clock skew也带来了改良(-25%),这对动态功耗的改善是实实在在的。部分critical path的缩短,也让时钟频率的上升更容易 所以ppt roadmap上performance的提升,从2025年到2026年上升了12.7%,大部分都是来自于时钟频率的上升(12.7%) 所以好处基本上是topology拆分电路逻辑设计上带来的提升 既然没有实质上的工艺提升,华为芯片堆叠带来等效密度提升的trade off代价在哪里? 三个代价:散热超前发展,设计复杂度高,制造成本变高 最大的代价就是热密度的同步上升,理论上logic on logic都是CPU execution发热最严重的区域,这部分折叠起来相当于功耗密度直接翻倍,但算上41% power efficiency改善,功耗密度仍只比非堆叠方案高40%左右。所以第一代只能对最关键的部分做折叠,大概只占全芯片面积的53%。 所以散热技术也被逼的超前发展,直接上毫米级的MEMS风扇,做micro-cooling fan。 另外的代价就是设计复杂度的变高,critical path的折叠,哪个部分的logic能折叠,折叠之后又会带来从前端到后端的巨大变化要推翻重来 现有的所有EDA工具也不可能支持3D topology,论文自己也承认,full-scale LogicFolding需要全新的3D-native EDA toolchain,把多层stacked dies当作单一连续设计实体处理。哪些logic能折叠、折叠后的inter-die timing closure怎么做,Physical Design(PD)也是难点 制造成本也会更高,被迫超前部署advanced packaging封装,1.5~2um的hybrid bonding + logic on logic都是很有挑战需要显著更高的成本 以前一层wafer做一次光刻;现在两层wafer分别做光刻再bonding,加上hybrid bonding的overlay控制(论文要求<0.5μm)、TSV、KOZ keep-out zone、冗余修复、良率乘法损失,每颗芯片的制造成本和测试成本都要显著上升 -------------------------- 2. Tau scaling这个说法,scaling的到底是什么,这个scaling技术路线是不是一次性的design topology红利?潜力如何?持续进步的空间在哪里? τ Scaling的核心主张是:用时间常数τ替代几何线宽作为全栈优化目标,在器件、电路、芯片、系统四个层级分别压缩特征延迟 公式本身没有任何新物理。"关注瓶颈延迟"是所有架构师都在做的事情。整个行业都知道互联RC是延迟瓶颈,TSMC每一代工艺都在用low-k dielectrics/semi-damascene等手段降RC。把一个众所周知的优化方向包装成"定律"是显然的营销宣传手段,本质是More than Moore的广义摩尔定律的另一种说法 抛开marketing,华为目前所谓RC delay的改善,本质上是芯片堆叠之后,topology距离缩短,让匹配的effective RC都变小,不是RC工艺常数 至于scaling的意思,是能持续发展的一条roadmap。这里的持续改善路径指的是,全芯片堆叠的层数越来越多,从25~30年的2层堆叠,到31年开始的3层堆叠,以后甚至会考虑4层堆叠 第一代折叠技术甚至不是全芯片双层折叠,而是选择性折叠关键logic,所以只有大概53%的芯片面积实现了折叠(密度155->238),等到后面几代折叠面积会逐渐增大,到2030年接近全折叠(密度155->292)。2031年的roadmap之所以会出现一个阶跃,就是因为那是从2层折叠到3层折叠的时间点。 但需要注意的是,这个scaling方法的边际效应是逐渐缩小的,折叠成双层的收益是100%,2->3层的收益就只有50%,如果2035年再从3->4层堆叠,收益就只有33%了 另外随着堆叠层数变高,上面说到的三个挑战,散热,设计复杂度,成本,都是越来越大 --------------------- 3. 华为的芯片堆叠,是不是TSMC/AMD已经有的hybrid bonding技术?华为做到的是cache on logic,cache on cache,还是logic on logic,logic on logic最大的散热问题是怎么解决的? 是已经有的技术没错,但同时也是把现有技术指标做到了领先也是真的,3D堆叠本身不是新技术,TSMC的hybrid bonding量产还是6um,华为论文给出Kirin 2026的hybrid bonding pitch是1.5μm 我在刚刚看到华为的堆叠消息之后,第一反应也是怀疑和AMD的3D V cache类似,它主要把 SRAM cache 叠在 已经有的L3 cache 区域上,通常会避免直接堆在最热的 CPU execution logic 上,就是避免散热问题,毕竟SRAM 的功耗密度和热点特性与high-activity logic 不一样,如果最热的logic on logic堆叠,散热恐怕会碰到困难 但看了更多数据之后,clock buffer -56%、clock depth -42%、clock wire -28%,这些只有在core内部的clock distribution被重构时才可能发生。纯SRAM stacking不会碰core内部的clock tree。另外如果只是cache on cache,大概率是不需要单独MEMS微型风扇额外散热的,证据普遍都指向logic on logic方式 华为这个技术的精妙之处在于,logic on logic 折叠之后热密度并没有翻倍,而是因为topology的好处,能耗下降了30%,这样热密度只上升了40~50% 而第一代没有完全把整个最热的execution logic 100%堆叠起来,论文也明确说selectively applied along key critical paths,只是大概53%有选择性关键路径会堆叠起来,可能颗粒度都没有那么好,只是IP堆叠在IP上,那么热密度上升也许能维持在20%以内 但这条道路继续前行,超前发展的散热就成了必然,现在是MEMS微型毫米级的主动散热风扇,紧贴处理器传导效率高,和华为手机一样,散热堆料特别足,而且技术领先同行。 以后怕是要把HBM7/8的微流道散热技术提前用起来了,毕竟HBM7/8要上24+层堆叠,华为很可能要在提前用上下个世代的散热技术了 ------------------------- 4. 从架构角度来说,最重要的问题,华为41%的power efficiency(能耗比)提升,到底是怎么实现的?为什么AMD的3D V cache没有这么大的提升? 首先确定41%的定义。论文只说"SoC performance-core power efficiency improved by 41%",没有给出benchmark名称、Voltage/Freq点、温度条件、功耗边界。但PPT roadmap上有一个关键线索:ISO-Power Performance的数字,2025年是2.75,2026年是3.1,提升12.7% 这个时钟频率提升12.7%完全一致,可以理解为,同功耗的性能提升是12.7%,绝大部分是时钟频率提升带来的 至于能耗比上优化的猜测是,LogicFolding缩短critical path → 在固定Vdd下Fmax从2.75GHz提升到3.1GHz → 这意味着在原来的2.75GHz频率下,有了约12.7%的timing headroom → 这个空间在iso-performance模式下可以换成更低的Vdd 另外的能耗比的提升,可能也来自于电路折叠之后,cache hit latency的下降。从业界经验来看,一般L2/L3 cache hit latency下降10%,CPU整体性能会有至少5%的提升 ppt里显示SRAM latency下降30%,估计会有一部分转化为cache hit latency的下降 AMD的3D V cache没有这么大的提升,主要是因为AMD的底层logic die并没有重新设计,3D cache的延迟latency不仅没有减小反而加大,只是增加了cache大小,收益不如latency下降那么明显。 另一方面,clock skew的下降,critical路径变短,造成电路timing变好,意味着华为可以使用更低的vdd(猜测甚至能低7~8%),以及路径缩短所带来的RC的下降(考虑到clock buffer -56%、wire -28%、SRAM pJ/bit -24%这些数字,比如C_eff下降10~15%合理),再加上clock tree的整体缩短和下降,确实是有可能在部分Voltage/Freq点做到同性能下,做到30%的功耗下降的,而30%的功耗下降换算过来就是41%的power efficiency 对比苹果和高通,每一代手机芯片在iso-power下单核性能一般提升10-20%,iso-performance下功耗一般降30-40%,这是V/F曲线的特性决定的,所以从经验上来说,数字是对的上的。 所以这个power efficiency(能耗比)的提升,从现有的数字上来说可以从topology推导出来是合理的,可能真的和工艺节点没有太大关系 ---------------------------- 5. 这个技术路线有没有可复制性,其他家会不会效仿? 短期内不会大规模效仿,因为性价比和风险收益比来说不好。长期来看,这个方向所有人都在走,只是名字不一样 华为做LogicFolding的根本驱动力是制裁,工艺节点被卡在7nm,只能在封装,散热,和设计层面想办法弥补。华为也为此付出了不小的代价:散热成本,设计复杂度,以及制造成本更高(包括良率)。这是一个被逼出来的路线,不是一个自然选择 其他玩家在用TSMC就能做到正常的经济迭代,是没有必要冒着这个风险,去超前迭代散热技术和设计复杂度的 长期来看,Intel的Foveros、TSMC的SoIC、AMD的MI300的3D stacking都在朝同一个方向走。如果继续追最先进节点的经济性持续恶化,那么"固定一个成熟节点+3D topology optimization"的路线会越来越有吸引力 散热方面,MEMS微型风扇和微流道也会成为未来HBM散热的主流 ------------------- 总结一下,华为这次的创新,绝对是值得尊重的,在制裁环境下,用极高的设计复杂度和成本,在一个被锁定的工艺节点上大胆重新设计,榨出了一次大的topology红利,虽然它有天花板。每多加一层的边际收益递减(堆叠1->2层, 2->3层, 3->4层,提升百分比变小),leakage无法解决,散热越来越难,3D EDA工具链更是全新的挑战。 但这个Tau scaling不是一条可以走十年的指数增长路径,每次爬完一个台阶,下一个台阶更难爬,而且台阶更矮收益更小,华为以后想缩小差距,还得再想想靠什么其他的路线
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足模面试系列,看起来很酷的女孩为了赚生活费,还是拍下了这反差时刻!
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足模面试套路·纯欲白衣女大篇 转过身去,背对着镜头……慢慢把脚抬起来,雪白柔软的足底完全展现在眼前。 粉嫩的脚心微微弓起,脚趾轻轻蜷缩着,像在害羞又像在邀请。 「这样……可以吗?」 清纯女大学生最致命的反差,就是这双被藏起来的极品足底啊…… 百位原创足控面试系列更在主页置顶!
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足模面试套路现场!可爱短发女大首秀! 坐在镜头前紧张兮兮地报数据: “身高168……体重96斤……鞋码38码……” 然后按照要求,把粉嫩大脚抬起来正面对着镜头展示……脚心粉粉嫩嫩的。 想看百位小姐姐面试花絮主页置顶自取! #足控福利# #足模面试#
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