行业分析:AI光互连全景:谁是下一个“HBM级瓶颈”?
AI算力的瓶颈正在从计算转向带宽。随着GPU规模扩大,节点间通信接近N²级增长,电互连在功耗与距离上逐步触顶,光互连从可选项变成刚需。这一变化不只是需求扩张,而是产业结构的重排:光开始从数据中心边缘进入系统核心,甚至进入封装内部。
从底层看,硅光(SiPho)是在硅基上做出一整套光通信器件:波导负责传光,调制器把电信号变成光,探测器再把光变回电。它解决的是带宽与能效问题。硅本身不能发光,激光器依赖InP、GaAs等III-V材料,因此整个体系天然是“硅 + III-V”的异构结构。
产业链可以拆成四层:上游材料(InP与激光材料)、中游核心器件(激光器、硅光芯片)、模块与封装(光模块、CPO)、以及系统与网络架构。价值分配并不均匀。最稀缺的是光源,也就是激光器及其背后的InP体系,这一层类似算力链中的HBM,是物理瓶颈;再往下是硅光与光芯片,决定光电融合是否可行;光模块更偏制造与组装,周期性更强;真正的高价值封装集中在系统级CPO。
在硅光制造这一层,Tower Semiconductor 和 GlobalFoundries 是典型代表。它们本质是foundry,把光子芯片从设计变成晶圆。器件公司是它们的客户,而不是供应商。两者路径不同:TSEM更像工艺专家,擅长定制和复杂结构,解决“别人做不出来”的问题;GF更像平台型foundry,提供标准化工艺和规模能力,让更多客户可以复制。
这也解释了近期股价的差异。TSEM的上涨几乎直接由AI光互连驱动,尤其是硅光需求进入订单兑现阶段;GF更多受益于AI整体需求扩散,硅光只是其中一部分。前者是主线变量,后者更像beta。
很多人会误以为竞争在晶圆尺寸,比如300mm。但在SiPho、模拟、RF这些领域,关键不在晶圆,而在工艺复杂度、良率和客户绑定。真正决定竞争力的是能否稳定量产复杂光电结构,而不是晶圆大小。
从全球格局看,中国在光模块层面占据优势,但在SiPho制造仍处于早期阶段。差距不在技术原理,而在量产能力和客户验证。短期内,由于订单和经验的正反馈,差距在拉大;中期随着下游需求反向驱动,上游有望追赶。这一结构和HBM不同,SiPho不属于天然寡头,更可能走向多极竞争。
真正改变产业结构的是CPO(co-packaged optics)。CPO不是一个器件,而是一种封装形态:把光芯片与算力芯片封在一起,使光从“外部模块”变成“系统内部的一部分”。实现路径是先在SiPho晶圆上完成器件制造,筛选良品(KGD),切割成die,再与GPU/ASIC、HBM等一起进行异构集成,通常采用平面并排而非堆叠。
这一变化的核心结果是:硅光从“独立产品”变成“系统中的一层”。功能重要性不变,但定价权下降。过去光模块可以独立定价;在CPO中,价值更多被系统整合者吸收。掌握先进封装能力的厂商更接近控制节点,这也是为什么TSMC和Intel在这一阶段具备更强话语权,而TSEM和GF更接近中游die供应商。
CPO对技术提出了三大硬约束:功耗、带宽密度和封装耦合。功耗决定系统是否可持续,带宽密度决定扩展能力,封装耦合决定良率和成本。这三点直接推动硅光工艺进入新阶段。
在这一过程中,低损耗波导成为关键基础。波导是芯片内部的“光通道”,损耗以dB/cm衡量。0.1 dB/cm与1 dB/cm的差异,会在封装内线性累积,直接决定系统功耗与成本。当前主流量产水平在0.3–1 dB/cm,先进工艺可到0.1 dB/cm,实验室中的氮化硅(SiN)接近0.01 dB/cm,但距离大规模量产仍有距离。材料路径也逐渐清晰:硅波导受限于粗糙度和折射率,长期趋势是向SiN迁移。
难点不在单点,而在多重极限叠加:侧壁粗糙度、PECVD氢吸收、SiN应力、弯曲损耗、光纤耦合等因素同时作用。这也是为什么真正的优势来自“全栈工艺控制”,而不是某个单一技术突破。
CPO不仅改变技术路径,也改变竞争结构。未来不会出现单一路线,而是分层共存:
核心AI集群:定制CPO,追求极致性能
大规模部署:标准化CPO或pluggable,追求成本与灵活性
即使在CPO内部,也会分化为“高性能CPO”和“标准化CPO”,类似HBM与DDR的关系:前者吃价值,后者吃规模。
对TSEM和GF来说,这种分化进一步强化各自路径。TSEM更靠近高性能CPO,承接定制需求,有机会成为局部瓶颈;GF更靠近标准化CPO,承担规模扩张,是产业的放大器。
整条链可以压缩成一句话:材料决定能不能做,芯片决定性能上限,封装决定系统价值,系统厂决定利润分配。对应到算力链,InP激光器类似HBM,CPO类似GPU封装,光模块类似服务器组装,而硅光晶圆厂更像中间层的chiplet供应商。
从投资角度看,最确定的机会在光源,这是物理瓶颈;最大弹性在硅光与CPO,一旦路径跑通会被放大;光模块是顺周期;封装稳定吃利润但不容易爆发;系统层存在潜在黑马,但取决于架构演进。硅光不会消失,但正在被“吞入系统”。未来真正的“HBM时刻”,更可能出现在光源层或系统级封装,而不是封装之前的中游晶圆环节。
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