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据美国科技商业媒体《信息报》本周一报道，中国已开始小规模批量生产自主研发的浸没式深紫外（DUV）光刻机，这标志着中国在减少对外国技术依赖的进程中迈出了关键一步。该类关键的芯片制造设备长期以来一直由荷兰供应商阿斯麦（ASML）主导。
《信息报》援引两名知情人士称，一家上海企业预计今年内向中芯国际、华虹半导体及长鑫存储等主要芯片制造商交付首批约5台DUV光刻机，2027年产量计划提升至约20台。这款中国产光刻机主打28纳米芯片生产，还可满足7纳米级别芯片的制造需求。
报道未披露这家获得中共国家支持的制造商的具体名称，但称该公司整合了中国多家企业的研发团队，其中包括政府支持的芯片设备初创企业上海宇量升科技有限公司。《金融时报》去年9月曾报道，中芯国际测试的国产浸没式DUV光刻机来自上海企业宇量升。
路透社本周二报道称，该公司名为上海爱晟纳电子科技集团，是一家国营企业，2023年8月在上海成立，注册资本就高达70亿元人民币，主要股东为上海电气控股集团及上海国际信托旗下子公司等国有资本。
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